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차세대 분말 공급 시스템

CVM(Clogged Vibration Method)은 새로운 방식의 분말 공급 장치로, 안정적인 분말 공급 속도, 반영구적인 수명, 그리고 넓은 공급 범위를 제공합니다. 또한 DED 공정에서 중력식 분말 공급 방식과 가스 직접 분말 공급 방식 모두에 적용 가능하며, 다양한 공정 환경에 유연하게 대응할 수 있습니다.
MX-Lab에는 CVM 기술이 적용된 분말 공급기가 기본 탑재되어 있으며, PCM(Powder Control Module) Multi 및 Single과 같은 독립형 분말 공급 장치도 제공합니다.

Material: Ti-6Al-4V (Unit: g/min)

*Based on PCM-Multi

CVM(Clogged Vibration Method) 방식 분말 공급기

• 다종 소재 동시 공급 가능
• 분말 공급량의 연속적인 정밀 조절 가능
• 금속 분말의 연성 및 입자 형상에 영향을 받지 않는 안정적인 공급
• 중력식 및 직접 분말 공급 방식 지원
• 높은 안정성의 분말 공급 성능

Ti Powder Feeding Test for 7 hours (Target Value: 0.03 g/min)

• 0.05
• 0.04
• 0.03
• 0.02
• 0.01
• 0

* 본 시험은 MX-Lab 장비를 이용하여 수행되었습니다.

PCM Series (Powder Control Module)

고정밀 CVM 분말 공급 장치

독립형 및 장비 통합형 시스템 지원

• 간편한 설치
• 극소량 분말 공급 가능
• 정밀한 분말 공급량 및 미량 소재 제어
• 특허받은 분말 공급 기술과 독자적인 피드백 시스템 적용
• RTF(Real-Time Feedback) 기반 실시간 피드백 시스템

새롭게 개발된 PCM은 실시간 피드백 제어 기술을 적용하여 안정적이고 정밀하게 공급합니다.

PCM-Single

대량 생산에 적합

• 단일 호퍼(1 Hopper) 분말 공급 시스템
• RTF 기반 실시간 피드백 제어
• 분말 공급량 : 0.5~10.0 g/min (Ti-6Al-4V 기준)
• 연속적인 품질 관리 기능
• 안정적인 분말 공급
• 대용량 호퍼

PCM-Mini

신합금 소재연구 개발에 적합 (HEAs 등)

• 최대 6개 호퍼를 지원하는 Hexa 분말 공급 시스템
• 분말 공급량 : 0.03~2.0 g/min (Ti-6Al-4V 기준)

Technical Data